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第一四七五章 90nm光刻机(2 / 5)

作品:《我的一九八五

1999年,PGCA半导体公司申请从GCA购买一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线,但遭到美国商务部否决,重新申请购买一条12英寸晶圆、180制程工艺的半导体生产线,3个月后才批准,2000年12月7日,这条生产线才量产。

得陇望蜀!

2000年12月底,孙健怂恿中村三郎代表曙光东芝晶圆公司,从东芝公司引进一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线,但遭到日本半导体协会拒绝;曙光东芝晶圆公司花费15亿美元(包括从BSEC采购40台250nm制程工艺的光刻机)从日本引进了一条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线,如今还处于设备安装阶段,9月下旬试生产。

国内有了二条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线,台积电、三星都只有一条。

京城半导体公司(BSEC)研制成功的90nm制程工艺的光刻机虽然比GCA和Nikon晚了近三年的时间,比ASML、Canon、SVG晚了一年多的时间,但已经是一项了不起的成就。美西方国家禁止出口最先进的技术和生产线给国内,孙健多次遭遇「有米无锅」的局面。

1993年3月,孙健奉命接手工业部四十五所、中K院微电子研究中心和中K院沪海光学精密机械研究所及其配套工厂,组建BSEC,BSEC生产的光刻机,制程工艺同GCA和Nikon相比,相差四代,落后20年都不止!

BSEC同中K院、华清、燕大、哈工大、国科大、华中大学、沪海硅片制造厂、冰城光源材料厂、金城激光器制造厂、金城金属气体厂等97家科研院所和公司长期保持合作关系,联合开发单晶硅、光源材料、激光器材料和光刻气体等技术攻关项目。